NANOHUNTER II

ESPECTRÓMETRO DE MESA DE FLUORESCENCIA DE RAYOS X DE REFLEXIÓN TOTAL (TXRF)

Análisis elemental de trazas rápidas y caracterización de películas delgadas

 

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Descripción

El nuevo espectrómetro de fluorescencia de rayos X de reflexión total (TXRF) de sobremesa Rigaku NANOHUNTER II de última generación permite un análisis elemental de ultratrazas de alta sensibilidad de líquidos hasta concentraciones de partes por billón (ppb). La espectroscopia de fluorescencia de rayos X de reflexión total es un método mediante el cual un haz incidente de rayos X simplemente roza la muestra, lo que genera un ruido de fondo bajo y una medición de alta sensibilidad de elementos ultratraza.

TXRF para aplicaciones ambientales de oligoelementos

Debido a las regulaciones ambientales cada vez más estrictas, ahora existe la demanda de un método más simple para realizar análisis elementales hasta niveles de ppb para los líquidos residuales de fábrica y las corrientes de efluentes. Con el espectrómetro NANOHUNTER ™ II, el análisis hasta el nivel de ppb se vuelve posible, incluso con un tamaño de muestra muy pequeño, simplemente agregando una gota de líquido al portamuestras, secándolo y luego realizando la medición. También se pueden realizar fácilmente análisis cuantitativos utilizando sustancias estándar internas.

TXRF de sobremesa con tubo de rayos X de 600 W de potencia

El analizador Rigaku NANOHUNTER II TXRF combina un sistema de ajuste del eje óptico completamente automático que proporciona un análisis estable de alta sensibilidad en un factor de forma de sobremesa de fácil manejo que permite un funcionamiento rápido y sin problemas. Con una fuente de rayos X de alta potencia de 600 W, un espejo (óptico) recientemente desarrollado y un detector de deriva de silicio de área grande (SDD), el espectrómetro NANOHUNTER II TXRF cuenta con un muestreador automático de 16 posiciones para aprovechar los tiempos de medición rápidos para alta rendimiento.

Principio de funcionamiento TXRF

Un haz de rayos X incidente incide sobre la muestra en un ángulo poco profundo (por debajo del ángulo crítico para la reflexión total de los rayos X para el sustrato), lo que resulta en una reflexión prácticamente completa del haz de excitación lejos del detector de deriva de silicio (SDD). Esto proporciona contribuciones de fondo drásticamente reducidas en los espectros de fluorescencia de rayos X de dispersión de energía (EDXRF) medidos. Al excitar de manera eficiente los elementos de la superficie, al tiempo que elimina virtualmente el ruido de fondo, la técnica TXRF ofrece un rendimiento de señal a ruido extremadamente alto que da como resultado una sensibilidad de medición elemental ultratraza.

TXRF

GI-XRF para perfilado en profundidad de películas delgadas

En el área del análisis de superficies sólidas, existe una demanda (principalmente en los campos de películas delgadas y películas gruesas) de análisis que penetren un poco más profundamente que la superficie. Para este tipo de análisis, se emplea una metodología llamada fluorescencia de rayos X de incidencia rasante (GI-XRF) mediante la cual los elementos debajo de la superficie se excitan variando el ángulo de incidencia de la fuente de rayos X. Debido a que el espectrómetro NANOHUNTER II TXRF tiene un ángulo de incidencia variable, es posible realizar análisis de superficie de perfil de profundidad. La técnica GI-XRF es aplicable a la investigación a nanoescala.

Características
  • TXRF de sobremesa para análisis de ultratrazas
  • Capacidad GI-XRF para caracterización de películas delgadas
  • Cuantifique a niveles de partes por mil millones (ppb)
  • Tubo de rayos X de 600 W para mediciones rápidas
  • Detector de deriva de silicio (SDD)
  • Muestreador automático de 16 posiciones
  • Alta sensibilidad para As, Se y Cd
  • Perfecto para análisis de nanopartículas
  • Entorno de análisis: aire, N₂ * o He *
Especificaciones
Nombre del producto NANOHUNTER II
Técnica Fluorescencia de rayos X de reflexión total (TXRF)
Beneficio Análisis elemental de ultratrazas de alta sensibilidad de líquidos
Tecnología  TXRF y GI-XRF
Atributos centrales Fuente de rayos X de 600 W, detector de deriva de silicio de área grande (SDD)
Opciones principales Entorno N₂ o He
Ordenador PC externa
Dimensiones del núcleo 697 (ancho) x 691 (alto) x 597 (profundidad) (mm)
Masa (unidad central) 100 kilogramos
Requerimientos de energía 1Ø, 100-240 V, 15 A

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